最終拋光懸浮液 Final Polishing Suspensions

- 二氧化矽拋光拋光懸浮液

- 基本型

- 無水型

 


  • 最終拋光懸浮液

    新增內容：
    用於金屬和非金屬材料的氧化鋁拋光劑，如塑料.
    1微米
    pH：3.4
    包裝尺寸：1公升和5公升

    二氧化矽 - 最終拋光懸浮液

    通過對某些材料，特別是金屬類型的最終拋光，二氧化矽懸浮液已經置換了氧化鋁懸浮液。這主要是由於硬度不同，因為二氧化矽的維氏硬度為1100HV，相反，氧化鋁為約。1800 HV。對於例如陶瓷材料的拋光，您通常更喜歡鑽石。

    我們有大量的二氧化矽懸浮液。他們針對拋光不同材料的不同任務進行了調整。

    » 不同的晶粒結構
    » 酸性和鹼性反應性懸浮液的pH範圍為3.5至10
    » 晶粒尺寸分佈為0.2μm至0.050μm（200 - 50 nm）
    » 一個獨特的系統，以防止結晶
    » 無水懸浮液

    最初開發的二氧化矽懸浮液用於拋光矽晶片。該二氧化矽懸浮液的操作模式是化學機械的。樣品表面將被蝕刻; 用軟二氧化矽除去所得塗層，使表面幾乎不變形。正如在晶片拋光中一樣，當在使用氧化劑之前添加懸浮液時，這是最好的。通常你會使用過氧化氫或酸/鹼與鹽結合使用。您需要使用蝕刻劑，該蝕刻劑通常與成品物體的蝕刻同時使用。必須在使用前加入氧化劑或蝕刻劑，因為它可以觸發二氧化矽懸浮液的變化，例如絮凝或凝結。

    結晶

    二氧化矽懸浮液的一個問題是施用後的晶體沉澱。如果在最終製備後蒸汽的液體蒸發，則二氧化矽含量濃縮。因此，存在通過添加新懸浮液不能解析的晶體沉澱。晶體嵌入拋光布中，不再使用。

    我們已經開發出一種非常有效的方法來阻止晶體沉澱。這種方法減少了水的蒸發，用我們的膠體二氧化矽可以再次溶解沉澱的晶體。從而延長了拋光布的使用壽命！

    概述最終拋光懸浮液

    描述        晶粒尺寸        pH的值        濃度(克/公升)
    膠體         0,05            10            585
    氣相，鹼性   0,12            10            238
    氣相，鹼性   0,2             10            238
    氣相，無水   0,2             -             240

  • 無水二氧化矽 - 最終拋光懸浮液

    我們提供無水版二氧化矽懸浮液。我們用乙醇代替水。因為拋光是在無水區域進行的，所以這種二氧化矽懸浮液的操作方式與其他二氧化矽懸浮液一樣是化學機械的。不會發生蝕刻和氧化。因此，這種懸浮液的效果純粹是機械的。特別適用於水敏材料的最終拋光的是例如鎂和鋅層。

    粒度：0.2μm
    濃度：238克/公升
    包裝尺寸：1公升和5公升

    我們還提供：

    膠體二氧化矽 - 最終拋光懸浮液0.05μm（50nm）鹼性
    二氧化矽 - 最終拋光懸浮液0.2μm（200nm）鹼性
    二氧化矽 - 最終拋光懸浮液0.12μm（120nm）鹼性
    包裝尺寸：1公升和5公升

    我們還提供氧化鋁拋光懸浮液，pH值：中性，顆粒大小 1μm，0.7μm和0.25μm。